详细摘要： 德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 6200 (CSAR 62)，高分辨率，用于生产集成电路和掩模的高对比度电子束电阻。

详细摘要： 英国EM Resist 电子束光刻胶 SML Resist ,SML50,SML100,SML300,SM600,SML1000,SML2000

详细摘要： 德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 610系列用于纳米光刻的 AR - P617电子束电阻共聚物抗蚀剂系列用于生产集成电路和掩模

详细摘要： 德国ALLRESIST防护涂层PMMA Electra 92 (AR-PC 5090)用于非氮基电子束电阻的导电保护涂层用于在绝缘衬底上耗散电子束电荷的顶层

详细摘要： ZEP520A是一种高性能正电子束电阻，具有高分辨率、高分辨率敏感性和耐干腐蚀性。适用于各种电子束工艺。

详细摘要： AZ 光刻胶 AZ1500 系列，其中型号AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)

详细摘要： AZ 光刻胶，G线/I线/G线I线通用光刻胶系列

详细摘要： 进口原厂正片1.掺杂类型：N，P2. 晶向：100，110，1113. 直径：2~12英寸4. 电阻率：常用各种范围均提供，0.001~10k欧姆.厘米5. T...

详细摘要： 国产正片，晶向：100，110，111 ，直径：2~8英寸

详细摘要： TOPS 激光开封系统 TL-1 EX,TL-1Plus（Laser D cap），脉冲式光纤激光，激光输出功率： 10w ，20w，30w，50w （可选），...

详细摘要： E-Beam 电子束光刻胶 ：HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, EBL6000系列，Ma-N2400系列。纳米压印胶：mr-NIL 600...

详细摘要： 紫外光刻胶-薄胶，S 1800 系列，AZ5214, BCI-3511, SPR 955, AZ1500

详细摘要： Lifft off光刻胶 : RN-218系列， RN-246系列，ma-N 400 系列/1400 系列，AZ nLOF 2000系列， LOR/PGMI, ...

详细摘要： 宽带厚胶，SU-8 10系列：GM1010，GM1020，GM1030，GM1040，GM1050，GM1060，GM1070，GM1075导电 SU-8 (G...

详细摘要： 德国 ALLRESIST 紫外光刻胶，各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep...

详细摘要： 富士负性PI LTC9000系列：LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9510, LTC9520.正性PI：FB56...

详细摘要： 彩色光刻胶，EK580A，RGB彩色光刻胶，染色 SU-8。

详细摘要： 德国Allresist 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA 胶，PMMA/MA 聚合物， LIGA 用胶等。 电子...

详细摘要： 德国Allresist 特殊工艺用光刻胶，电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶， 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶

详细摘要： 德国Allresist紫外光刻胶（Photoresist） 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off 胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA 用胶等。 ...